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Leica EM ACE200真空鍍膜儀具有哪些特點(diǎn)？
點(diǎn)擊次數(shù)：1131 更新時(shí)間：2023-09-15
真空金屬鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法。
真空鍍膜儀是一款多功能型真空鍍膜系統(tǒng)設(shè)備，用于制備超薄、細(xì)顆粒的導(dǎo)電金屬膜和碳膜，以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。
Leica EM ACE200真空鍍膜儀是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時(shí)具有這兩種功能。能夠滿(mǎn)足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動(dòng)電腦控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等全過(guò)程，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便。
主要技術(shù)參數(shù)：
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）
設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度
可選石英膜厚檢測(cè)器，精確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm
全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過(guò)程
觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便
真空度7×10-3mbar
濺射電流：0-150mA可調(diào)
方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)，樣品倉(cāng)尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm
